X线头影测量分析..ppt

X线头影测量分析Cephalometrics Analysis
简介
1934年Hofrath and Broadbent 提出
我国于20世纪60年代初运用于临床
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通过测量X 线头颅定位照相所得的影像,对牙颌、颅面各标志点描绘出一定的线角进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织的结构,使对牙颌、颅面的检查诊断由表面形态深入到内部的骨骼结构中去,它是正畸临床诊断及治疗设计的一种重要手段.
X线头影测量分析
简言之:
通过对X片进行分析、测量,从而了解牙颌、颅面骨骼及软组织发育状况及相互关系。
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一、主要应用
研究颅面生长发育
牙颌、颅面畸形的诊断分析
确定错牙合畸形的矫治计划
研究矫治中,矫治后的变化
外科正畸的诊断和矫治设计
下颌功能分析
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不同个体同一年龄段—横向研究颅面发育
同一个体各年龄段---纵向研究颅面发育
明确了颅面生长发育机制,快速生长期的年龄、及对颅面生长发育的预测。
---“颅面生长发育”章节
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通过X线对正常牙合人的颅面结构进行分析
得出正常牙合的各项测量参考标准
作为诊断分析
的基础
、颅面畸形的诊断分析
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对比
分析出错牙合畸形的机制
正常牙颌
颅面关系
个体牙颌
颅面结构
确定牙和颌位的理想位置,制定可行的矫治方案
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、颅面的变化
治疗前
正畸治疗
治疗中,矫治后
对比
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通过X线对颅面畸形患者进行分析
得出畸形的机制
确定手术部位、方法及需要移动或切除的部位
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局限性
标记点的定位都是相对
标记时存在个体差异
存在种族、性别的差异
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