薄膜太阳能电池(非晶硅)
非晶硅薄膜电池生产
超声波玻璃清洗机(重要设备)(镀膜前清洗)
工艺:洗的是膜表面上的污垢和灰尘及一种高分子材料
要求:导电玻璃,不在生产线上用,速度越快越好;离线使用,单面清洗;导电玻璃最初清洗的材料是一种高分子材料(类似塑料),清洗液可能是水,也可能是四氢呋喃THF。
激光划线机1(重要设备)
工艺:这一步主要是划刻氧化锡,使用的1064纳米波长的红外激光器
要求:刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、Dead area无用区域大小(三条刻膜线总线宽)、划刻线宽、系统产能(MW/年)
预热炉
工艺: 加热导电玻璃
PECVD真空沉积系统,即等离子体增强化学沉积(主要设备)
工艺: 非晶硅p-i-n镀膜
要求:电池转换率>6%、生产效率、玻璃基片型号资料、价格
冷却炉
工艺: 对导电玻璃降温
激光划线机2(重要设备)
工艺:这一步主要是划刻非晶硅a-Si,使用的532纳米波长的绿激光器
要求:刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、Dead area无用区域大小(三条刻膜线总线宽)、划刻线宽、系统产能(MW/年)
磁控溅射系统(主要设备)
工艺:主要是透明氧化物TCO镀膜,金属(银或铝)背电极镀膜
激光划线机3(重要设备)
工艺:这一步主要是划刻铝或者银以及氧化锌膜,使用的532纳米波长的绿激光器
要求:刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、Dead area无用区域大小(三条刻膜线总线宽)、划刻线宽、系统产能(MW/年)
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