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李敖有话说第03集沐猴而冠和Democrazy.doc

文档分类：医学/心理学 | 页数：约1页举报非法文档有奖

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三枪四靶离子束溅射仪LJ-2IonBeamSputteringFacilitywithThreeGunsandFourTargets型号:LJ-2主要功能:使用该装置可以制备单层膜、多层膜和多组分膜,也可以进行离子束刻蚀;三枪四靶离子束溅射仪具有三个离子源(两个溅射源,一个辅助源)、一个可旋转的靶台(四靶位)以及一个可连续旋转的基片台。。主要技术参数:1加速电压:50~1200V;2束流:10~100mA/cm2;3溅射气压:4×10-2~8×10-2;4阳极电压:50~125V;5阴极电流:6~15A;6基片温度:20~800℃。操作注意事项:1、本设备由专人负责操作,未经允许,不得擅自动用。2、溅射过程中,设备的分子泵、靶台、基片台需要通循环水仪保持较低的温度。3、在产生离子束过程中,要先将阴极电流升高到足以产生热电子。离子枪电源电控部分1234567真空腔基片台离子枪靶台离子泵闸板阀机械泵4、关闭设备过程中,要在关闭分子泵约半个小时以后再关闭分子泵。

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