光精典课件.ppt

光精典课件.ppt*集成电路制造技术 -原理与工艺重庆邮电大学微电子教研室**光刻光刻工艺、光刻技术、刻蚀在半导体制造技术中,最为关键的是用于电路图形生成和复制的光刻技术,光刻技术的研究和开发,在每一代集成电路技术的更新中扮演着技术先导的作用。随着集成电路的不断提高,光刻技术也面临着越来越多的难题。*IC对光刻技术的要求高分辨率高灵敏度的光刻胶低缺陷精密的套刻精度:误差≤±10%L可对大尺寸硅片进行光刻加工*第9章光刻工艺就是将掩膜版(光刻版)上的几何图形转移到覆盖在半导体衬底表面的对光辐照敏感的薄膜材料(光刻胶)上去的工艺工程。**(photolithography)就是将掩模版(光刻版)上的几何图形转移到覆盖在半导体衬底表面的对光辐照敏感薄膜材料(光刻胶)上去的工艺过程。光刻是微电子工艺中最重要的单项工艺之一。用光刻图形来确定分立元器件和集成电路中的各个区域、如注入区、接触窗口和压焊区等。*用光刻工艺确定的光刻胶图并不是最后器件的构成部分,仅是图形的印模,为了制备出实际器件的结构图形,还必须再一次把光刻胶图形转移到光刻胶下面组成器件的材料层上。也就是使用能够对非掩膜部分进行选择性去除的刻蚀工艺来实现图形的转移。光刻工艺的目标是根据电路设计的要求,生成尺寸精确的特征图形,并且在衬底表面的位置正确且与其他不见的关联正确。*。微图形加工的最小分辨率是指光刻系统所能分辨和加工的最小线条尺寸或机器能充分打印出的区域。分辨率是决定光刻系统最重要的指标,能分辨的线宽越小,分辨率越高。其由瑞利定律决定:分辨率系数k1=~=~:NA,,k1