1：1映射情况下电阻阵列Flood法非均匀性校正技术研究.pdf

第卷第期红外技术. .
年月.
:映射情况下电阻阵列法非均匀性校正技术研究
朱岩,许渊,王连武,高毅,朱璇,张进华
中国人民解放军部队,北京
摘要:电阻阵列非均匀性校正技术一直都是国外相关科研机构的研究热点,目前主要的非均匀性校正
技术有两种——稀疏网格法和法。与稀疏网格法相比,法的算法比较复杂,需要亚像素的
相关知识,并且要充分考虑图像退化、映射比和配准精度对校正流程的影响,但是不需要处理大量的
网格图像数据,因此校正耗时较短,而且更适用于低驱动电压的情况。在红外热像仪与电阻阵列:
映射的情况下对电阻阵列法非均匀性校正技术进行了研究,提出了校正算法,阐述了电阻阵列
投射的红外图像发生退化的过程,并对图像退化对校正算法的影响进行了研究。研究发现,图像退化
将导致“边缘效应”,有可能弓起误校正,而且退化函数的尺度将影响校正算法的收敛速度。
关键词:电阻阵列;非均匀性校正;法; 图像退化
中图分类号: 文献标识码: 文章编号:—.—

:
, , ., , , .
,,
:
,.
,
.
.,
.
, —
. ,
,.

.
’.
,,

.,
,
.
:,,,
第三代而目前我国自主研制并列装的红外制导武器
引言
配备的大都还是点源式红外导引头,其抗干扰能力和
世纪年代开始,红外导引头发展到红外成像精确制导能力与红外成像制导导引头差距很大。
制导阶段,与点源红外制导相比有了质的飞跃。目前红外半实物仿真技术在红外导引头的设计研发
美国等发达国家列装的红外成像制导导引头已发展到中发挥了非常重要的作用。动态红外景像生成系统是
收稿日期:—.
作者简介:朱,男,山东青州,汉族,硕士,助理工程师,研究方向为控制系统仿真与系统分析。
基金项目:某院重点平台建设项目,编号:。
第卷第期红外技术.
年月.
红外成像半实物仿真系统的核心组成部分,动态红外在高驱动电压的情况下,点亮大块的辐射元
场景投射器是动态红外景像生成系统的核心部件。电有可能使电阻阵列总线中的电流过大,这限制了
阻阵列是红外景像投射器件的主要发展方向。在理想法的使用,而稀疏网格法不会遇到这种问题;
情况下,如果给电阻阵列上所有的辐射元输入相同的稀疏网格法在概念上比较简单,不需要考虑
驱动电压,每一个辐射元的辐射亮度都应该相等。但图像退化,也不需要电阻阵列与红外热像仪的精确配
实际情况是,电阻阵列的非均匀性是不可避免的,即准与映射,而法需要较为复杂的算法和亚像素
对于相同的电压输入,各个辐射元的辐射亮度会有所的相关知识,并且要充分考虑图像退化、映射比和配
差异。影响电阻阵列非均匀性的因素有很多,包括由准精度对校正算法的影响;
制造工艺引起的电阻阵列自身固有的非均匀性、总线稀疏网格法很耗时,因为它需要对大量的网
压降带来的非均匀性,以及电阻阵列暗电流引起的非格图像数据进行处理,而法耗时较少。
均匀性等【。电阻阵列投射红外景像的保真度是影响
假设条件
动态红外景像生成系统性能的重要指标。因此,电阻
阵列在实际使用之前都必须对其进行非均匀性校正。本文的目标是对法非