93真空磁控溅射镀膜设备及工艺技术研究 - 三亿文库 93真空磁控溅射镀膜设备及工艺技术研究 EPE;电子工业专用设备;EquipmentforElectronicPr;工艺与制造;真空磁控溅 射镀膜设备及工艺技术研究;程建平1，杨晓东1(中国电子科技集团公司第二 研究;摘要:磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用，适合的;重要的影响; ResearchoftheVacuumMagne;CHENGJianping,YANGXiaodo;(Chinaelectr EP E 电 子 工 业 专 用 设备 Equipment for Electronic Products Manufacturing 工艺与制造 真空磁控溅射镀膜设备 及工艺技术研究 程建平 1 ，杨晓东 1 ( 中国电子科技集团公司第二研究所，山西 太原 030024) 摘 要: 磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用， 适合的工艺和制造技术对磁 控溅射镀膜有着 重要的影响。 介绍了用于薄膜电路的生产工艺流程以及由此而决定的设备组成 及控制技术，并重 点叙述了薄膜制备的方法、参数选择、设备设计方法。 关键 词: 磁控溅射; 镀膜工艺; 设备 中图分类号: TP2 文献标识码: A 文章编 号: 1004-4507(2009)11-0027-05 Research of the Vacuum Magnetron Sputtering Deposition Equipment and its Prdcess CHENG Jianping, YANG Xiaodong (China electronics technology group corporation the second research institute, Taiyuan 030024, China) Abstract: The technology of Vacuum Magnetron Sputtering Deposition is wide used on the field of thin film manufacture. Appropriate technics and manufacture technique have important influence to the quality of film. Flowchart of manufacturing film circuit and correlative equipment with its control technique are mainly mentioned in the article. And the article tries to solves some practical problem, such as the method , parameter and relevant equipment. Keywords: MS (Magnetron Sputtering); Deposition technics ; Deposition equipment 磁控溅射是一种物理气相沉积现象， 属于辉光 放电范畴， 利用阴极溅射原理进行镀膜。膜层粒子 来源于辉光放电中正
