光学镜片清洗工艺流程.doc

光学镜片清洗工艺流程.doc光学镜片清洗工艺流程 :
1、研磨后的清洗 研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。研磨工 序中的主要污染物为研磨粉和沥青， 少数企业的加工过程中会有漆片。 其中研磨粉的型号各 异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。 根据镜片的材质及研磨精度不同， 选择不同型 号的研磨粉。 在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的， 以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。 研磨后的清洗设备大致分为两种： 一种主要使用有机溶剂清洗剂，另一种主要使用半水基清洗剂。
（1） 有机溶剂清洗采用的清洗流程如下：
有机溶剂清洗剂（超声波）-水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-纯水漂洗-IPA （异丙醇）脱 水-IPA慢拉干燥。
有机溶剂清洗剂的主要用途是清洗沥青及漆片。 以前的溶剂清洗剂多采用三氯乙烷或三氯乙 烯。由于三氯乙烷属 ODS （消耗臭氧层物质）产品，目前处于强制淘汰阶段；而长期使用 三氯乙烯易导致职业病， 而且由于三氯乙烯很不稳定， 容易水解呈酸性， 因此会腐蚀镜片及 设备。对此，国内的清洗剂厂家研制生产了非 ODS 溶剂型系列清洗剂，可用于清洗光学玻 璃；并且该系列产品具备不同的物化指标， 可有效满足不同设备及工艺条件的要求。 比如在 少数企业的生产过程中， 镜片表面有一层很难处理的漆片， 要求使用具备特殊溶解性的有机 溶剂； 部分企业的清洗设备的溶剂清洗槽冷凝管较少， 自由程很短， 要求使用挥发较慢的有 机溶剂；另一部分企业则相反，要求使用挥发较快的有机溶剂等。
水基清洗剂的主要用途是清洗研磨粉。
由于研磨粉是碱金属氧化物，
溶剂对其清洗能力很弱，
故而对