电子技术基础电子教案
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第一章 半导体的基础知识
第一节 半导体二极管
教学目的:1、了解半导体材料
2、知道PN结的特性
3、了解晶体二极管的结构和工作极小(几乎为零),这一部分称为死区,相应的A(A′)点的电压称为死区电压或门槛电压(也称阈值电压。如上图中OA(OA′)段。
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死区电压:硅管约为0.5V,
当正向电压超过门槛电压时,正向电流就会急剧地增大,二极管呈现很小电阻而处于导通状态。正向导通压降:~,~。(A′B′)段。二极管正向导通时,要特别注意它的正向电流不能超过最大值,否则将烧坏PN结。
:二极管两端加上反向电压时,在开始很大范围内,二极管相当于非常大的电阻,反向电流很小,且不随反向电压而变化。此时的电流称之为反向饱和电流IR,见上图中OC(OC′)段。
3、二极管的击穿特性
反向击穿:二极管反向电压加到一定数值时,反向电流急剧增大,这种现象称为反向击穿。此时对应的电压称为反向击穿电压,用UBR表示,如C′D′)段。
三)、二极管的主要参数
1. 最大整流电流IF
2. 最大反向工作电压 URM
ﻩ
本课小结:
1.PN结是组成半导体二极管和其他有源器件的重要环节。
2.当PN结加正向电压时正向偏置时的情况,加反向电压时反向偏置的情况。
。
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4、二极管的重要特性是单向导电性。
5、二极管的主要参数有最大整流电流、最大反向电压和最大反向电流。
练习题与作业题:
1、思考题:PN结在什么情况下正偏?什么情况下反偏?
2、作业题:PN结为什么具有单向导电性?
3、《电子技术基础》教材P20 1-5。
第二节 半导体三极管
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教学目的:了解半导体三极管结构、输入输出特性曲线、主要参数。
教学重点:了解半导体三极管结构、输入输出特性曲线、主要参数。
教学难点:输入输出特性曲线、电流放大作用。
教学方法与手段:教师讲授与学生练习、实验实训相结合;板书与多媒体课件相结合。
课时计划:4课时
结构组成:由两个PN结、3个杂质半导体区域和三个电极组成,杂质半导体有P、N型两种。
三个区:基区---很薄。一般仅有1微米至几十微米厚.
发射区---发射区浓度很高。
集电区---集电结截面积大于发射结截面积。
两个PN结:发射结---为发射区与基区之间的PN结。
集电结---为集电区与基区之间的PN结。
三个电极:发射极e、 基极b和集电极c; 分别从这三个区引出的电极。
三个区组成形式:有NPN型和PNP型两种。。
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NPN型 晶体三极管的结构图及表示符号PNP型
三极管种类:
按基片材料分---硅管,目前国内生产硅管多为NPN型(3D系列);
锗管,目前国内生产锗管多为PNP型(3A系列)。
按频率特性分---高频管和低频管。
按功率大小分---大功率管、中功率管和小功率管等。
按组成形式分---有NPN型和PNP型两种。实际应用中采用NPN型三极管较多。
PNP型和NPN型三极管表示符号的区别是发射极的箭头方向不同, 这个箭头方向表示发射结加正向偏置时的电流方向。
二、电流放大原理
(1)产生放大作用的条件
内部:a)发射区杂质浓度>>基区>>集电区
b)基区很薄
外部:发射结正偏,集电结反偏
(2)三极管内部载流子的传输过程
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a)发射区向基区注入电子,形成发射极电流 iE
b)电子在基区中的扩散与复合,形成基极电流 iB
c)集电区收集扩散过来的电子,形成集电极电流 IC
(3)电流分配关系:
IE = IC + IB
1)发射区向基区发射电子的过程
2)电子在基区的扩散和复合过程
3)电子被集电区收集的过程
三极管的电流放大作用:
实验表明IC比IB大数十至数百倍,因
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