扫描电子显微镜扫描电子显微镜( scanning electron microscope ) ,简称扫描电镜( SEM ) 。是一种利用电子束扫描样品表面从而获得样品信息的电子显微镜。它能产生样品表面的高分辨率图像,且图像呈三维,扫描电子显微镜能被用来鉴定样品的表面结构。结构扫描电子显微镜由三大部分组成:真空系统,电子束系统以及成像系统。真空系统真空系统主要包括真空泵和真空柱两部分。真空柱是一个密封的柱形容器。真空泵用来在真空柱内产生真空。有机械泵、油扩散泵以及涡轮分子泵三大类,机械泵加油扩散泵的组合可以满足配置钨枪的 SEM 的真空要求,但对于装配了场致发射枪或六硼化镧枪的 SEM, 则需要机械泵加涡轮分子泵的组合。成像系统和电子束系统均内置在真空柱中。之所以要用真空,主要基于以下两点原因: ?电子束系统中的灯丝在普通大气中会迅速氧化而失效,所以除了在使用 SEM 时需要用真空以外,平时还需要以纯氮气或惰性气体充满整个真空柱。?为了增大电子的平均自由程,从而使得用于成像的电子更多。电子束系统电子束系统由电子枪和电磁透镜两部分组成,主要用于产生一束能量分布极窄的、电子能量确定的电子束用以扫描成像。电子枪电子枪用于产生电子,主要有两大类,共三种。一类是利用场致发射效应产生电子,称为场致发射电子枪。这种电子枪极其昂贵,在十万美元以上,且需要小于 10 -10 torr 的极高真空。但它具有至少 1000 小时的寿命,且不需要电磁透镜系统。另一类则是利用热发射效应产生电子,有钨枪和六硼化镧枪两种。钨枪寿命在 30~ 100 小时之间,价格便宜,但成像不如其它两种明亮,常作为廉价或标准 SEM 配置。六硼化镧枪寿命介于场致发射电子枪与钨枪之间,为 200 ~ 1000 小时,价格约为钨枪的十倍,图像比钨枪明亮 5~ 10 倍,需要略高于钨枪的真空,一般在 10 -7 torr 以上;但比钨枪容易产生过度饱和与热激发问题。电磁透镜热发射电子需要电磁透镜来成束,所以在用热发射电子枪的 SEM 上,电磁透镜必不可少。通常会装配两组: ?汇聚透镜:用汇聚电子束,装配在真空柱中,位于电子枪之下。通常不止一个,并有一组汇聚光圈与之相配。但汇聚透镜仅仅用于汇聚电子束,与成像会焦无关。?物镜:物镜为真空柱中最下方的一个电磁透镜,它负责将电子束的焦点汇聚到样品表面。成像系统电子经过一系列电磁透镜成束后,打到样品上与样品相互作用,会产生次级电子、背散射电子、俄歇电子以及 X 射线等一系列信号。所以需要不同的探测器譬如次级电子探测器、 X 射线能谱分析仪等来区分这些信号以获得所需要的信息。虽然 X 射线信号不能用于成像,但习惯上,仍然将 X 射线分析系统划分到成像系统中。有些探测器造价昂贵,比如 Robinsons 式背散射电子探测器,这时,可以使用次级电子探测器代替,但需要设定一个偏压电场以筛除次级电子。基本参数放大率与普通光学显微镜不同,在 SEM 中,是通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。如果需要更高的放大率,只需要扫描更小的一块面积就可以了。放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到。所以, SEM 中,透镜与放大率无关。场深在 SEM 中,位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的汇焦而成像。这一小层的厚度称为场深,通常为几纳米厚,所以, SEM 可以用于纳米级样品的三维成像。作用体积电子束不仅仅与样品表层原子发生作用,它实际上与一定厚度范围内的样品原子发生作用,所以存在一个作用“体积”。作用体积的厚度因信号的不同而不同: ?俄歇电子: ~ 2nm 。?次级电子: 5λ,对于导体, λ=1nm ;对于绝缘体, λ=10nm 。?背散射电子: 10 倍于次级电子。?特征 X 射线: μm 级。?X 射线连续谱:略大于特征 X 射线,也在μm 级。工作距离工作距离指从物镜到样品最高点的垂直距离。如果增加工作距离,可以在其它条件不变的情况下获得更大的场深。如果减少工作距离,则可以在其它条件不变的情况下获得更高的分辨率。通常使用的工作距离在 5mm 到 10mm 之间。用途成像次级电子和背散射电子可以用于成像,两者用处不一,前者多用在显示物体表面起伏,后者则是用在显示物体原子序数的差异。表面分析俄歇电子、特征 X 射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关,所以可以用于成分分析。但由于电子束只能穿透样品表面很浅的一层(参见作用体积) ,所以只能用于表面分析。表面分析以特征 X 射线分析最常用,所用到的探测器有两种:能谱分析仪与波谱分析仪。前者速度快但精度不高,后者非常精确,可以检测到“痕迹元素”的存在, 但耗时太长。透射电子显微镜透射电子显微镜( Transmission electron microscope , TEM ) ,简称
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