油墨异常处理.docx

防焊油墨制程问题处理
问题内
容
发生（原 因）地 占
原因
处理方法
油墨放在冷藏室中保管时，提前置于室温，如果将油墨在低
开油搅拌
吸湿
过期
温的状态下打开，会吸收水气产生凝结现象，所以-90SEC
显影
、膜厚
如果膜厚太厚，溶剂会残留造成显影性降低形成显影不洁。 请将膜厚变薄或变更显影条件。
显影
油里A 7 1
导通孔内如堆积油墨会导致无法显影。保持油墨于印刷时不
佃军人于L
填塞入孔，或以显影条件来处理。（可考虑挡墨点印刷）
曝光
感光
曝光前如照射到日光灯或太阳光，油墨会感光而无法显影。
请在黄光灯下作业。
曝光
侧光
曝光能量过多与底片松动等，会形成侧光而导致曝光不洁。 请保持光量适中，底片密贴以防止侧光产生。
曝光
背面曝光
两百同时处理时，如基板太薄，膜厚太薄，曝光能量过多，
（鬼影）
油墨只用单面的情况时，基板易发生背面曝光，造成曝光残 留。请使用UV吸收材质、适当的膜厚度、适当的曝光能量、 适合的油墨，避免造成背面曝光影响。
.
膜厚
.
膜厚太厚会发生侧蚀现象导致解像性降低。请将膜厚变薄或
提高曝光能量。
涂膜上如有溶剂残留导致光无法进行反应，解像性低下。请
.
/预烤不足
重新修改预烤条件。请参考指触干爽度不足之栏及排气不足
之栏。
解像性
.
曝光温度
如曝光时温度低，无法进行光反应使解像性低下。请将温度 保持在20c o
.
显影过度
显影过度会发生侧蚀的现象导致解像性低。请重新修正显影 条件。请参考显影不洁的显影条件。
曝光量不足则解像性低。请使用适当的曝光能量。必须定期
.
曝光量不足
地检查曝光能量。底片的种类、污损、灯的寿命、MYLAR与
玻璃面等都需注意。
.
油墨
依油墨不同解像度各有不同。
前处理
异物附着
.
油类、杂质、氧化膜等，是造成密着性低的原因，必须以酸 处理或研磨等方法除去。
前处理
处理残液
前处理液等如残留于铜表面会造成密着不良的现象。请充分 洗净。
在研磨时，没有适度地上下调整刷轮以确保接触面积，就无
密着度 不良
前处理
前处理
硬化
表面粗糙度不足
表面氧化
热量不足
法产生磨刷滚轮导致密着力低下。虽然没有明确的定义，但
请变更研磨条件（压力等）以确保粗糙。
即使前处理运作一切正常无误，但如因处理后的放置等因素 导致氧化，密着性也会降低。即进行印刷在制程。还有，也 要考虑到水洗水质的影响。
后烤不足，无法得到后固化正常的密着性。请以适合的条件
进行后烤
后烤前加上后UM UV文字等，密着力会低下。改为在后烤之
.
后UV
后加上后UV,密着度会降低。（或将曝光能量订在200MJ/CM2 的范围）
硬度不
开油搅拌
\ 热量不足
.
后烤不足无法得到正常的后固化。使用适合后烤的条件。