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微纳电子学概论期末考试总复习
指导老师:袁寿才
20XX年题型:1、选择题:NPN晶体管管芯制造工艺流程。
2、填空题:平面工艺的核心、集成电路设计制造的过程(阶段)。
3、简答题:隔离技术的基本要求和目的。
20XX年题型:1、选择题:方块电阻的计算。
2、简答题:Si02层的作用、热氧化工艺原理、扩散和离子注入杂质分布图。
20XX年题型:1、选择题:IC•CAD步骤、制版工艺流程。
2、填空题:光刻工艺流程、刻蚀方法。
3、简答题:IC工艺中光刻的基本原理。
20XX年题型:1、大题:解释什么是电网表结构,并写出给出电路图的网表结构(如下面作业3①)。
2、填空题:微电子技术采用什么加工工艺,基础是什么,实现了什么功能,核心技术是什么?(下面作业1①)。
1958年宣布研制出什么,包含几个原件,意义是什么?(答案如下)3、简答题:电路封装的主要作用。
4、选择题:CMOS工艺流程、版图步骤。
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