飞秒激光器.docx

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低沉积率通常描述镀膜与脉冲激光沉积。
- - nm /脉冲,这在前面描述的涉及到的十赫兹的准分子激光每分钟大约48纳米,。按照这个速度,一微米厚膜将存入约21分钟。然而,已观察到这样的速度下降后,从目标中除去大量的材料,。近按照这个速度,80分钟将就会生成一个微米厚的薄膜。这减少了沉积速率已链接到的表面改性目标的激光。消融的目标表面的激光往往变粗糙,从而减少了沉积速率。经过长时间的消融的单个目标取得的平均沉积速率是由激光注量和较高的平均沉积率高激光注量结果控制的。不幸的是,以前的观察,准分子激光的能量也产生在许多液滴表面上,降低了这些薄膜的耐磨损性。利用飞秒激光沉积率已经观察到了类似于高能量的准分子激光。在过去的研究,。然而,在沉积过程中,每脉冲能量被设置为200 and250mJ之间,这导致了在其表面上出现许多大颗粒。无论是用AlMgB14使用的飞秒激光沉积率,还是使用一个低能量的受激准分子激光器,这都是已经研究过的了。因此,脉冲激光沉积过程中使用了导致几乎无颗粒薄膜的准分子激光进行测量和比较沉积速率从而测量飞秒激光,来确定必要的长度产生相当厚度的薄膜沉积。


在足够低的激光能量的受激准分子激光器中,以减少或消除在薄膜中的大颗粒的沉积速率的影响来沉积到M2钢插入两个薄膜中。每个膜的部分区域被掩蔽放在一个小的金属片衬底上,以建立一个锋利的膜涂覆和未涂覆区域之间的过渡区域。在这一过渡的步骤上形成了地区之间的基板。所得到的膜厚度是通过使用手写笔轮廓来测量的。每个薄膜沉积了9个小时,以确保合理的厚度。在沉积之前,×10 -6托。。
:用于研究的准分子激光沉积速率的沉积参数摘要
样品ID
每个脉冲的能量(MJ
重复频率(Hz)
沉积时间(s)
S100907
80
10
32,400
S101107
100
10
32,400
同样地,调查使用飞秒激光的沉积速率将两个薄膜沉积到M2钢插入件中的情况。之前沉积室被抽空到小于1×10 -6托,另外在沉积过程中,基板未加热。为了最大限度地提高沉积速率,使用前面描述的沉积过程。。这些膜的厚度测定与上述所述的步骤相同。
:沉积参数,用于研究沉积速率的飞秒摘要
样品ID
每个脉冲的能量(MJ
重复频率(Hz)
沉积时间(s)
B062408

1000
240
B062408 -2

1000
360
最后,沉积速率的飞秒激光作为时间的函数衡量通过一系列薄膜淀积的测量,其程序在玻璃片上的时间范围从15到900秒。在淀积期间,每个衬底被加热到的300℃下。
。这些膜的厚度测定与上述所述的步骤相同。
:摘要沉积参数,用于研究沉积时间的影响
样品ID
沉积时间( S)
每个脉冲的能量(MJ)
重复率
(赫兹)
基板
B081108