高分辨透射电子显微术.ppt

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（High-Resolution Transmission Electron Microscopy）
汇报人姓名
单/击/此/处/添/加/副/标/题/内/容
01
1924年，de Broglie提出波粒二象性 假说
02
1926年 ，Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束
03
1933年 ，柏林大学研制出第一台电镜（点分辨率达到50nm）
04
1939年，德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜（点分辨率10nm）
05
1950年 ，开始生产高压电镜（，）
06
1956年 ，门特(Menter)发明了多束电子成像方法，开创了高分辨电子显微术， 获得原子象。
透射像（TEM）的种类和特点
利用显微镜观察的目的————衬度的差异
1
质厚像（不同质量物质吸收电子能力不同形成衬度像）
2
衍衬像（满足布拉格衍射程度不同形成的衬度像）
3
高分辨显微像（HREM）：属于相位衬度像。
4
高分辨显微像实质：是透射束和衍射束干涉形成的衬度，反映了晶体的周期性排列。
5
高分辨显微像分：晶格像（或条纹像）和结构像（或原子像）
6
高分辨显微像（HREM）/STEM的明场像（BF）和暗场像（DF）是干涉像。
7
电镜自1932年问世以来，经过半个世纪的发展，不但作为显微镜主要指标的分辨本领已由10nm (1939年第一台商用透射电镜)提高到，可以直接分辨原子，并且还能进行纳米尺度的晶体结构及化学组成的分析，成为全面评价固体微观特征的综合性仪器。
在此期间，人们还致力于发展超高压电镜、扫描透射电镜、环境电镜以及电镜的部件和附件等，以扩大电子显微分析的应用范围和提高其综合分析能力。
1
2
高分辨电镜可用来观察晶体的点阵像或单原子像等所谓的高分辨像。这种高分辨像直接给出晶体结构在电子束方向上的投影，因此又称为结构像(图4-86)。
01
加速电压为100kV或高于100kV的透射电镜(或扫描透射电镜)，只要其分辨本领足够的高，在适当的条件下，就可以得到结构像或单原子像。
02
从用100kV、500kV和1000kV电镜所观察到的原子排列很接近理论预言的情况，也和X射线、电子衍射分析结果相近。
03
Yi
硅[110]晶向的结构像
1
结构像的衬度—位相衬度
2
在SEM质厚衬度成像时，一般是用物镜光阑挡掉散射光束，使透射束产生衬度。
3
但在极薄(如60nm)样品条件下或观察单个原子时，它们不同部位的散射差别很小，或者说样品各点散射后的电子差不多都通过所设计的光阑，这时就看不到样品各部位电子透过的数目差别，即看不到质厚衬度。
4
但在这时，散射后的电子其能量会有10－20eV的变化，这相当于光束波长的改变，从而产生位相差别。
行波图
，本应为T波，现在变成了I波，两者之间的位相角差一个△φ，但两者的振幅应相当或近似相等，只是差一个散射波S，它和I波的位相差π/2，在无像差的理想透镜中，S波和I波在像平面上，可以无像差的再迭加成像，所得结果振幅和T一样，我们不会看到振幅的差别，(a)。
但如果使 S 波改变的位相，(b)所示，就会看到振幅 I + S 与T 的不同，这种形成的衬度就叫做位相衬度。在透射电镜中，球差和欠焦都可以使S波的位相改变，从而形成位相衬度。
复振幅图
01
实际上，透射电镜的像衬度，一般来说是质厚衬度和位相衬度综合的结果。
03
以位相衬度形成的单原子像或结构像的观测标志着电镜已得到了重大发展。
02
对于厚样品来说，质厚衬度是主要的；对于薄样品来说，位相衬度则占主导地位。