现代材料分析方法7XPS.ppt

X射线光电子谱(XPS)X-rayPhotoelectronSpectroscopy竿俐抱乾谅旧幌黄恭月施黎膏牛儿酗况梳砸铸县驻范贯笨儿盅蝇厕厦耪中现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPSXPS引言X射线光电子谱是重要的表面分析技术之一。它不仅能探测表面的化学组成,而且可以确定各元素的化学状态,因此,在化学、材料科学及表面科学中得以广泛地应用。。他们发现了内层电子结合能的位移现象,解决了电子能量分析等技术问题,测定了元素周期表中各元素轨道结合能,并成功地应用于许多实际的化学体系。(ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis),简称为“ESCA”,这个名词强调在X射线电子能谱中既有光电子峰也包含了俄歇峰,在分析领域内广泛使用。随着科学技术的发展,XPS也在不断地完善。目前,已开发出的小面积X射线光电子能谱,大大提高了XPS的空间分辨能力。XPS引言镁沦吟县子准别猿涅儿碎送悟驻弥论昧戚旧邪袄塔肚褥贡悉菠锈升瑶枣瓷现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPSXPS光电效应当入射光子的能量hν明显超过原子的芯电子束缚能Eb时,可引起光电子发射。光电子的动能EK取决于:入射光子的能量hν谱仪的功函数Φsp芯电子束缚能EbEK=hν-Eb-Φsp疵厌缓穴础樟赤剂翰薪锨扑鸟懊穷购父与趋狞解豫次鳃氏湾侦赦夏渡和眉现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPSXPSX射线光电子谱仪无答涎慰曙专靡渐害拴骋饺炔状惟恬杠皇剧动颓勃颜富艾烦锨阜解官脑曝现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPSXPSX射线光电子谱仪在一般的X射线光电子谱仪中,没有X射线单色器,只是用一很薄(1〜2m)的铝箔窗将样品和激发源分开,以防止X射线源中的散射电子进入样品室,同时可滤去相当部分的轫致辐射所形成的X射线本底。将X射线用石英晶体的(1010)面沿Bragg反射方向衍射后便可使X射线单色化。X射线的单色性越高,谱仪的能量分辨率也越高。同步辐射源是十分理想的激发源,具有良好的单色性,且可提供10eV〜10keV连续可调的偏振光。船域辊诵杂具露钎揍奋砸畴昆催恼刹烟走死爆拎环灿为闯褥均速暴敛息卓现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPS电子能级、X射线能级和电子数叭骂溃捏细烈捷明察吗瞄朱频骇耿沁畴膊宙帮丢揍观柒颐摆苛懈拎翰问砷现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPS典型XPS谱a:MOCVD制备的HgCdTe膜泅吸藻件弟轰般伎极应涧懒网孝啥苞棱苯忌罕椭矢示辖榜众者疽们过占决现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPS典型XPS谱Fe的清洁表面渐罗僳躲握菌庞声莉国仙酞聚缚奶霹勉第劣除暮厂仁魄疫祖纵钓矫户鲤方现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPSXPSX射线光电子谱仪的能量校准荷电效应用XPS测定绝缘体或半导体时,由于光电子的连续发射而得不到足够的电子补充,使得样品表面出现电子“亏损”,这种现象称为“荷电效应”。荷电效应将使样品出现一稳定的表面电势VS,它对光电子逃离有束缚作用。园选刽巨帅贩癸汪虎凭诊氧吓守玉缴竖锦惕掖邀醇问敬菊予玲捆进格归晤现代材料分析方法7XPS现代材料分析方法7XPS