PVD镀膜工艺.docx

Forpersonaluseonlyinstudyandresearch;(底材)(1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。(2)玻璃、陶瓷。(3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龙、水晶等。(4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。(1)金属基材装饰膜层:tin、zrn、tic、crnx、、、ti02、al等。(2)玻璃、陶瓷装饰膜层:tio2、cr2o3、mgf2、zns等。(3)塑料基材装饰膜层:ai、cu、ni、si02、ti02、ito、mgf2。(4)柔性材料装饰膜层:al、lto、ti02、zns等。。表1为部分金属基材装饰膜的种类及颜色。表1部分金属基材装饰膜的种类及颜色膜层种类色调tinx浅黄、金黄、棕黄、黑色tic浅灰色、深灰色ticxny赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色tin+au金色zrn金黄色zrcxny金色、银色tio2紫青蓝、绿、黄、橙红色crnx银白色tixal-nx金黄色、棕色、黑色tixzral-、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。1)膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源;(1)工件清洗、上架、入炉工件在入炉之前要经过超声波清洗、酸洗和漂洗三道工序。首先是在超声波清洗槽中放入按使用要求配制的金属清洗剂,利用超声波进行脱脂、清洗。清洗之后,进行酸洗,它可以中和超声波清洗时残余的碱液,还能起到活化处理的作用。然后进行漂洗以彻底除去酸液,漂洗时必须采用去离子纯净水或蒸馏水。经过三洗后,即时进行烘干,温度一般控制在100℃左右,时间为1h左右。也可以风吹干后马上人炉。(2)镀膜前的准备工作①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时,真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗,一般是半个月清洗一次。②检查电弧蒸发源。工作前,要确保电弧蒸发源发源安装正确,绝缘良好,引弧针控制灵活,程合适,恰好能触及阴极表面。③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好,负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。以上几项工作确保没有问题后,才可以关闭真空镀膜室的门,进行抽气和镀膜。(3)-3pa。开始是粗抽,从大气抽至5pa左右,用油扩散泵进行细抽。在粗抽时,可以烘烤加热至150℃。伴随镀膜室温度的升高,器壁放气会使真空度降低,然后又回升,-3pa时方可进行镀膜工作。(4)轰击清洗①氩离子轰击清洗真空度:通人高纯度氩气(%)真空度保持在2~3pa。轰击电压:800~1000v。轰击时间:,放电产生的氩离子以较高的能量撞击工件表面,将工件表面吸附的气体、杂质和工件表面层原子溅射下来,露出材料的新鲜表面。②钛轰击真空度:通人高纯度氩气使真空度保持在2x10-2pa。脉冲偏压:400~500v,占空比20%。电弧电流:60~80a,轮换引燃电弧蒸发源,每个电弧蒸发源引燃1~2min。(5)镀膜①镀钛真空度:通人高纯度氩气,真空度保持