光学膜厚仪操作规范兼职广告任务网总经办管代行政部人力资源部生产一部生产二部生产三部品检部研发部市场营销部采购部财务部项目部动力保障部文控中心档案室分发范围分发份数目的:规范COA胶厚测试操作方法1、光学膜厚仪工作原理:在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光,这时光的一部分在膜的表面反射,另一部分透进薄膜,然后在膜与底层(wafer或glass)之间的界面反射,这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象,膜厚仪就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。仪器结构如下图1所示:图1仪器结构图2膜厚测试界面2、测试操作步骤:1)开启膜厚仪电源开关和电脑,电脑桌面上打开操作软件“FILMeasure”后,操作界面如图2所示;2)取样:将一校正用的新wafer放置于膜厚仪测试处如图3,点击图4中“Baseline”进行取样校正;图3取样校正位置图4取样校正3)点击Baseline后出现如图5界面:点击“OK”;图54)点击“OK”后会出现如图6界面,要求等待5秒钟;图65)等待5秒钟后会出现新界面要求移去空白wafer;移去后点击“OK”即取样完毕,如图7;图76)开始测量:将所需测量的Wafer放置于仪器的灯光下,有胶的一面朝上;点击”measure”开始逐点测量,每片测试5个点,顺序依次为:中→上→右→下→左;7)测试完毕后
半导体光学膜厚仪操作规范 来自淘豆网m.daumloan.com转载请标明出处.
