【doc】ICP—AES法测定高碳铬铁中的硅ICP—AES法测定高碳铬铁中的硅一?船?冶金分析第1蜷第6~(199,1】ICP—AES法测定高碳铬铁中的硅堑~r.(辽宁进出?商品检验局,)抽要术文以N^,ot熔样,,快速,干扰少,-鼻壁堡堕璧—IC?-A—ES~,恳高碳铬铁常作为炼钢中的合金加入剂,%,容量法,比色法等,但这些方法操作繁琐,—AES法进行了硅的测定,采用标样制作工作监线,排除了各种干扰,-iol4S型等离子体光谱仪lGPF一2000型高频发生器|,,反向功率<5w,,,冷却气流量Arl4L/rain,:15mm1分析线:(1+1)'标准溶液甩标样配制(见表1).;将分析试样粉碎,并研裹1标撵置髑标样号GBW0L4~4si()lI1,———8方法的要求,置于105?;于高铝坩埚中,,,混合均匀后,再覆盖igNa:O:,置于高温炉内低温焙烘,然后逐渐升温至约700"C熔融,待完全分解后,取出冷却,,甩HNO;(i+1)调至酸性,(若不澄清,可继续滴加HN0.(1+1)溶解铁,锰的氢氧化物至煮沸澄清,注意体积,若体积过大可多煮一会],;将试样与标准系列依次引入等离子体,计算机打印出强度值,(噎'措盎分薪高碳铬铁为难熔的硬质台金,熔剂N8:O:的用量不宜太少,否则既增加了熔群困难,也不利于提高待测元素的谱线强度,但用量太多,又使谱线强度随钠浓度的增加而降低(见表3),且盐度增加,,选择NazO:用量为2g/,对'测定结果没有影响}浸提时如用玻璃烧杯,应当立即酴化,(1,2),依据其技术标准规定,,在待铡元素通道上测量谱线的干扰情况|又采取固定待铡元素浓度,分别改变基体元素浓度的办法,,谱线强度值以及用高铝坩埚和熔剖钠的影响分别列
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