纳滤清洗手册.docx

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第一章 纳滤膜的污染及清洗方法
本文介绍了影响复合膜性能的常见污染物及其清洗方法，本文适用于 4 英
寸、 6 英寸、 8 英寸及 英寸直径的纳滤膜组件。
注 1 ： 在任何情况下不要让带有游离氯的水与复合膜元件接触， 如果发生这
种接触， 将会造成膜元件性能下降， 而且再也无法恢复其性能， 在管路或设备杀
菌之后， 应确保送往纳滤膜元件的给水中无游离氯存在。 在无法确定是否有游离
氯时， 应通过化验来确证。 应使用亚硫酸氢钠溶液来中和残余氯， 并确保足够的
接触时间以保证反应完全。
注 2 ： 在清洗溶液中应避免使用阳离子表面活性剂， 因为如果使用可能会造
成膜元件的不可逆转的污染。
纳滤膜元件的污染物
在正常运行一段时间后， 纳滤膜元件会受到在给水中可能存在的悬浮物质或
难溶物质的污染， 这些污染物中最常见的为碳酸钙垢、 硫酸钙垢、 金属氧化物垢、
硅沉积物及有机或生物沉积物。
污染物的性质及污染速度与给水条件有关， 污染是慢慢发展的， 如果不在早
期采取措施，污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。
定期检测系统整体性能是确认膜元件发生污染的一个好方法， 不同的污染物
会对膜元件性能造成不同程度的损害。表 1 列出了常见污染物对膜性能的影响。
污染物的去除
污染物的去除可通过化学清洗和物理清洗来实现， 有时亦可通过改变运行条
件来实现，作为一般的原则，当下列情形之一发生时应进行清洗。
1． 在正常压力下如产品水流量较正常值降低 10-15%。
2． 为了维持正常的产品水流量，经温度校正后的给水压力增加了 10-15%。
3． 产品水质降低 10-15%，盐透过率增加 10-15%。
4． 使用压力增加 10-15%。
5． 纳滤各段间的压差增加明显（也许没有仪表来检测这一迹象） 。
常见污染物及其去除方法：
碳酸钙垢
在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统出现故障而导致给水 PH值升高，
那么碳酸钙就有可能沉积出来， 应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生， 以防止生长后
的晶体对膜表面产生损伤， 如早期发现碳酸钙垢， 可以用降低给水 PH 至 - 之间运行 1-2 小时的方法去除。 对沉淀时间更长的碳酸钙垢， 则应采用柠檬酸清
洗液进行循环清洗或通宵浸泡。
注：,否则可能会对纳滤膜元件造成 损害，特别是在温度较高时更应注意，最高的
提高PH,使用硫酸或盐酸来降低 PH值。
硫酸钙垢
清洗液 2（ 参见表 2） 是将硫酸钙垢从纳滤膜表面去除掉的最佳方法。
金属氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸钙垢的方法， 很容易地去除沉积下来的氢氧化 物（例如氢氧化铁 ） 。
硅垢
对于不是与金属氧化物或有机物共生的硅垢， 一般只有通过专门的清洗方法 才能将他们去除，有关的详细方法请与我们联系。
有机沉积物
有机沉积物 （ 例如微生物粘泥或霉斑 ） 可以使用清洗液 3 去除， 为了防止再繁
殖， 可使用经我们认可的杀菌溶液在系统中