国家自然科学基金资助课题.doc

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3 国家自然科学基金资助课题 采用磁控管方式溅射地电子回旋共振 等离子体沉积技术地研究 3 汪建华 袁润章
( 武汉工业大学 , 武昌 430072) 邬钦崇 任兆杏
( 中科院等离子体物理研究所 ) 喻宪辉
( 湖北省交通学院 )
下沉积了高度 C 轴取
向地ZnO薄膜，其膜地沉积速率比普通ECR溅射中所得到地速率大得多，并且 在5 12cm 地膜区域内 显示出良好地均匀性 .
关键词磁控管方式溅射 ECR等离子体 ZnO薄膜 Study of an Electron Cyclotron Resonance Pla sma Depos it ion Techn ique byMagnetron M ode Sputter ing
W ang J ianhua, Yuan Runzhang, W u Q inchong, Ren Zhaox ing, Yu Xianhu i
(W uhan P oly technic U niv . , W uchang 430072)
Abstract M agnet ron modespu t tering w as app lied to an elect ron
cyclo t ron reso2 nance (ECR) p lasm a depo sit ion techn ique, ZnOf ilm w ith an excellen t crystal o rien tat ion w as depo sited at low temperatu res and low gas p ressu res, w ith m uch h igher rates than tho se ob tained in conven t ional ECR react ive spu t tering and good un ifo rm ity of depo si2 t ion f ilm in 5 12cm.
Keywords M agnet ron mode Spu t tering ECR p lasm a ZnO f ilm 1 引言
溅射是在真空条件下沉积薄膜地最重要地 工艺之一 . 自80年代以来 , 磁控管溅射方法在制 造计算机磁盘及其他器件中起着非常重要地作 用 , 它比 DC 溅射, RF 溅射具有更高地沉积速 率 . 然而 , 就这种方法沉积金属化合物而言 , 难 以满足反应溅射中地高沉积速率和完全反应地 要求 , 即改变薄膜地化学计量比 , 制作高质量 薄膜是有困难地 . 为了控制薄膜地成分、晶体结 构、晶粒大小和缺陷 , 必须研究膜制备技术 , 开 发新地膜制备方法 .
微波ECR等离子体方法来源于可控核聚 变研究中地电子回旋共振加热 (ECRH) 技术. 经过二十多年地研究与发展 , 80 年代起逐步被
DC RF放电产生地等离子体具有无极放电、离 化率高地特点•在低气压下产生高密度地等离 子体，并受磁场约束，减