Br抛光机-CP3000设备操作规范.docx

,去除机械抛光留下的损伤层,并能进一步精确控制晶片厚度。:三个直径105mm玻璃抛光盘抛光盘转速:5-70转/分钟压力控制:包括总重达到1公斤的便士砝码(500g,200g,150g,100g和50g)图1:CP3000化学抛光机概览1——稀释液进料瓶2——腐蚀液进料瓶3——抛光液进料架4——龙头5——料管6——窥镜7——齿轮驱动8——出气口9——进气口10——控制面板11——保险丝12——(除控制系统外)。电源220V/50Hz。、连接电源,打开控制柜侧面的电源开关键12,按压操纵杆顶部按钮,进入processscreen界面。2、选择processscreen进入仪器工艺参数界面(按压操纵杆顶部按钮),以设定仪器的主要参数。3、上下左右扳动操纵杆即可修改不同的参数,例如:扳动操纵杆点亮工艺界面的‘plate’选项,按压操纵杆顶部按钮,将进入设定界面,操作者可以转动操纵杆设置抛光盘速度。当要求的速度设定好,即可点亮OK选项并按下操纵杆顶部的按钮。4、选择工艺界面左下角的‘start’选项,抛光盘开始以设定的速度转动,此显示将变化为‘stop’。、将稀释液进料瓶中加满稀释液,腐蚀液进料瓶中加满新配置的腐蚀液,盖上桶盖(不要拧紧)。2、将衬底夹具的玻璃盘浸泡在无水乙醇中,衬底放入衬底夹具中,无水乙醇液面高于衬底3mm以上。3、用约200ml乙醇或甲醇冲洗抛光垫,然后打开稀释液,设定转速5rpm,选择‘start’按钮,抛光盘开始转动,放空白夹具到第一个齿轮驱动7上(目的是将稀释液及腐蚀液更好的铺开),使抛光垫充分润湿5min。4、抛光垫润湿后,打开腐蚀液,关闭稀释液。通过观察窥镜5中溶液的滴加速度,并旋转腐蚀液进料瓶的龙头4,以控制腐蚀液的滴加速度。5、当腐蚀液均匀铺开在整个抛光垫后,设置好需要的抛光速度(保持抛光盘转动),将衬底夹具放入驱动齿轮中,同时开始计时。6、到达工艺时间,直接取出衬底夹具,并迅速用大量乙醇冲洗(衬底表面不可暴露于空气中,以防止表面氧化)。然后浸泡在无水乙醇中,无水乙醇液面高于衬底3mm以上。、保持抛光盘继续转动,关闭腐蚀液,用所剩的稀释液及无水乙醇充分冲洗抛光盘及抛光夹具。2、抛光盘停止转动(点击工艺界面左下角的‘stop’选项),回到processscreen界面,然后关闭仪器开关12,拔下仪器插头。3、当抛光垫仍然湿润时,将大抛光盘取下,包上保鲜膜,然后抛光垫朝下放置在平整台面上,目的是保证抛光垫在干燥的过程中不因收缩产生变形。、更换抛光垫过程当抛光垫上存在晶屑等脏污,需要对抛光垫进行彻底的清洗。取下传动齿轮板,用镊子小心取掉肉眼可见的晶屑,然后用大量乙醇冲洗抛光垫,并用百级洁净纸朝一个方向擦拭,最后再用大量乙醇冲洗。当抛光垫