制药用水第二部分水纯化技术 GMP 增补培训课程/ 目的回顾下列有关方面的基本技术和要求: ,消毒水系统设计 ,确保水不积聚并容易排尽 ,如:不锈钢 (1) 应无滞留点水源滞留点如 D=25mm ,而长度 X 大于 50mm ( 2D ) , 我们认为此滞留点过长。滞留区<2D 管道上的流向标志是很重要的卫生阀 DX 3. 水通过阀门时会被污染 2. 阀门关闭时细菌会生长水系统设计(2) 1. 禁止使用球阀滞留在阀内的水 (3) / 阳离子柱阴离子柱卫生泵出口或储存. 臭氧发生器紫外装置 HCl NaOH 洗出液进行中和处理“漏斗”装置至下水道排水管来自水软化器水必须保持循环状态典型的去离子(交换)装置示意图 1 2 3 4 5 61 2 3 4 5 6 回到去离子装置 5 µm过滤装置 1 µm过滤装置源水高压进水加压未透过水半透膜透过水排出或再循环低压纯化水反渗透原理二部储罐 1 µm过滤装置 2步反渗透装置 1步透过水一部分作为 2步反渗透装置的源水,另一多出的水回到 步未透过浓缩水“漏斗”装置至下水道 2步未透过水回到 1步储罐 2步反渗透后符合标准的水出水或储存 1步储罐经过软化或去离子的水水回到 1步储罐典型的2步反渗透装置示意图卫生泵 1步反渗透装置高压泵
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