使用TFCalc编辑膜系的方法.doc

假设我们要设计一个反射率>%高反膜系(波长10600nm):条件:(1)基底材料:GaAs(2)膜料:ZnSe,YF3具体步骤::图中弹出对话框,要求输入要编辑的文件名。因为我们是要新编膜系,则点击“取消”按钮,则只显示如下界面:图中自左到右的菜单名称中文意思分别是:“文件”、“编辑”、“修改”、“运行”、“结果”、“杂项”和“帮助”。点击其中的任何一项将弹出其包含的菜单内容。“File”,弹出如下菜单项:左图中的中文意思自上到下分别是:“NewCoating”弹出如下“编辑环境对话框”:上图左边图中英文对应的中文意思分别是:Angle角度IncidentMedium入射介质Substrate基底FrontLayer基底前面BackLayer基底后面ExitMedium出射介质在上图的右边框内分别输入:ReferenceWavelength(参考波长):1580Illuminate(光源):WHITE(白光)Incidentangle(入射角):(入射介质):AIR(空气)Substrate(基底)GaAs(砷化镓)Thickness(厚度)mm1(一般不考虑基底材料的厚度)Exitmedium(出射介质)GaAs(如果是透视膜系,则出射介质一般是空气)Detector(探测器):IDEA(理想探测器)FirstSurface(第一面)Front注:光源、基底材料、探测器应该分别在Illuminate、substrate、detector库中存在。这些库可以增减。“AnalysisParameters”(分析参数)按钮,弹出下面的对话框:因为本例我们考虑是入射角为0的条件,因此选中第一项的圆形无线电按钮------Rangeofwavelengths(波长范围)(nm),其他的均不选。点击OK按钮,返回上一层对话框,再点击OK按钮,显示如下的反射率与波长的关系曲线图(该图显示的没有镀膜情况下,基底材料的反射率):图上方的英文字符列出了该图成立的环境条件。现在我们可以进入下一步具体的膜系结果设计,一般高反膜系的结构是(HL)^sH,其中s是大于0的正整数。“Modify”菜单,弹出如下菜单选项:左边菜单项从上到下对应的中文意思是:,有2种方法可以编辑膜系,下面我们分别介绍:(1)使用膜堆公式(a)选择“StackFomula”,弹出如下膜堆公式窗口:图中的英文意思如下::输入公式,基底在第一层的左边;Material(材料):后面框内输入材料名称Thickness:厚度:后面框内输入厚度值(四分之一波长数),该值最好为大于0的正整数Optimize(优化):后面的框内输入“yes”或“No”Group(组):后面的框内输入1下面的3个按钮的意思是:GenerateLayers:生成膜系,完成后点击