氩、氢混合等离子体处理对GaAs表面性质及发光特性的影响.pdf

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氩、氢混合等离子体处理对表面性质及发光特性的影响王云华,周路,乔忠良,高欣,薄报学报引言发光学—砷化镓是一种Ⅲ、禁带宽度大和发光效率能电池和光探测器等光电子器件方面⋯,会降低摘要:介绍了一种氩、氢混合等离子体清洗基片的实验工艺,深人研究了氩、氢等离子体清洗表,⑻而,在空气中的砷化镓表面常常附着各种有机物、粉尘等污染物,而且容易在表面形成氧化层材料的发光效率。另外,氧还可以形成杂质第卷第年文章编号:,,同时讨论了气体流量、溅射功率和清洗时间等不同溅射参数对等离子体清洗效果的影响。结果表明,在氩气和氢气流量分别为痬,溅射功率为逑词奔湮奶跫拢珿返墓庵路⒐馇慷忍岣叽.%,样品表面的——鞠А关键词:等离子清洗;基片;发光强度中图分类号:.文献标识码:ご豪砉ご笱Ц吖β拾氲继寮す夤抑氐闶笛槭遥A殖ご痬和甴,珿珺獂:甌/,琣.,痬,,ィ產收稿日期:..:修订期:.基金项目:国家自然科学基金资助项目作者简介:王云华,女,吉林公主岭人,主要从事大功率半导体激光器的研究。.痜,簆;;,,.猰篵甧.:.
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,,使非辐射复合几率增生反应,生成,偷ブ蔄M保珿淖体氧化层与本体之间有很高的界面态密度,它们对载流子起着散射中心和非辐射复合中心作用,主要使用盐酸、硫酸、氢氟酸、双氧水、氨水、三氯乙烯等化学试剂,清洗不彻底,有毒性和腐蚀性,等发现采用氢等离子体清洗表面。可以有效去除衬底表面的氧和碳元素,%。氢等离子体清洗是一种表面气以外,用于等离子清洗的气体源还有氩、氧、氮、四氯化碳等,清洗方式可以是单一气体清洗,或者是制寤旌锨逑础艺,引入氩等离子体既可以通过物理溅射方式对磁控溅射中的气体辉光放电引入氩⑶等离子体,虷谧云够蛲饧悠作用下被加速产生动能,然后轰击到放在负电极氩等离子体参与的是表面反应以物理反应为击表面时产生的巨大能量可清除附着污染物,轰且腐蚀作用各向异性。然而,对于氩、氢混合气体,由于氩的原子量为.,远大于氢的原子量主的等离子体清洗。一般,,可形成优良的自体氧化物鳤的氧化物非常不稳定,。传统清洗技术可造成对表面的损坏‘】。年,,在一定条件下与表面发生作用,生成易挥发性物质而被抽走,从而实现分子水平的玷污去除目的。除了氢本文介绍了一种氩、氢混合等离子体清洗工表面进行清洁,还能够促进氢等离子体数量的增加,从而增强样品的清洗效果。本实验利用上的基片进行污染物清洗和表面能活化。实验中,通过调节氩氢气体比例、溅射功率以及清洗时间等参数对等离子体清洗工艺进行优化,并利用光荧光谱和湎吖獾缱幽芷等分析手段研究了基片的清洗效果。采用,夯旌系壤胱犹宕鞧可以起到化学清洗和物理清洗的双重作用,同时氩等离子体的引入还有利于提高氢等离子体的数量,能够增强样品的清洗效果。具体工作原理如图尽物理清洗主的等离子体清洗,也叫