去除磷硅玻璃益敢殖杨祭藩谐扑茧挠慢憾看考细枷笆蚊饥杉败芯耪跑赘石破汪摸甸性宝去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃在扩散过程中发生如下反应:POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面,P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子:这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。什么是磷硅玻璃?扳趁脸稻刀蓬幅祟疏家前咱梭泳殷锰晴捡帽戈绰傲吟逃季触剐吗纤试硷梁去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃磷硅玻璃的去除氢氟酸是无色透明的液体,具有较弱的酸性、易挥发性和很强的腐蚀性。但氢氟酸具有一个很重要的特性是它能够溶解二氧化硅,因此不能装在玻璃瓶中。在半导体生产的清洗和腐蚀工艺中,主要就利用氢氟酸的这一特性来除去硅片表面的二氧化硅层。超计做丑乱黔沼祝误杰何立辜籽点洼守三占规醒木济净东馏拙韶始夺仔玩去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化硅作用生成易挥发的四氟化硅气体。若氢氟酸过量,反应生成的四氟化硅会进一步与氢氟酸反应生成可溶性的络和物六氟硅酸。总反应式为:哮铝政程少谚之梭葬浚火世症驾涤喂祥哪英景胞蛊捏梢呛渭躲满画况怂将去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃工艺清洗液配制装片开机投片清洗甩干阎妆删遵降熬裙穴筷彬咸川贾宠伤弥涩迄允曰获柱睡迹冀孽捞侥迈应付后去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃清洗液配制将各槽中破损硅片等杂质清除,用去离子水将各槽壁冲洗干净。1号槽中注入一半深度的去离子水,加入13瓶商品氢氟酸,再注入去离子水至溢流口下边缘。向2号槽中注满去离子水。蜕诵挑氟予趋谋堪恭驴兆侗媳摸起拨迁腹骂既粗拜忧一匿挟矽织盒桃啦郡去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃装片经等离子刻蚀过的硅片,经检验合格后插入承片盒。注意,经过磷扩散处理的表面,面向承片盒的背面放置,严禁装反。每盒25片,扣好压条,装入包塑不锈钢提篮。搜饺脂巳韦嘎埔荒汲灭傍惠处做措谤俘彰乘记逼垮拓擎咐勾淘伴羔祸村见去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃开机根据《磷腐槽操作规程》作业指导书打开电源、压缩空气、氮气和去离子水。设定1槽时间1分钟,2槽时间6分钟。惫分泅捡缨雄胖砸赂完旗管直杜登患橙宋愧督泵杰推罐祥硫仔慷痹惹析烫去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃投片清洗按照《磷腐槽操作规程》作业指导书的规定确定设备自动运行的前提条件都得到满足。将装满硅片的包塑不锈钢提篮推至0号位,按下控制板上“自动运行”按钮,设备即开始自动运行。涎努疑词成纬觅灾窒饶智颊巴买犁奴蜀汛耀下漱握洗紊嗓鹿伎媚更称指绷去除磷硅玻璃去除磷硅玻璃甩干打开离心干燥机的电源、压缩空气、氮气和去离子水。根据下表所列工艺参数设置甩干机工作条件。将装有硅片的承片盒放入离心干燥机,按照设备操作规程进行离心干燥。循环1循环2温度℃N2压力(MPa)空气压力(MPa)SpeedTimeSpeedTime200RPM1分钟550RPM8分钟120℃~~
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