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文献检索综合报告透明导电薄膜研究进展学生姓名: xxx 班级: 无机 xxx 学号: xx 学院:纺织与材料工程学院 E mail: xxxxxxxxx@ 联系电话: xxxxxxxxxxx 完成时间: 20 xx年 x月 xx日 2 目录一、文献检索课程内容概述及检索举例二、实例:课题检索和总结针对热敏陶瓷课题的检索和总结 1 .课题分析…………………………………………………第3页 2 .检索策略…………………………………………………第4页 选择检索工具包括:中文期刊,学位论文(硕士论文,博士) ,专利,外文期刊, 国外专利 选择检索词…………………………………………第4页 拟定检索式…………………………………………第4页 3 .检索步骤及检索结果……………………………………第5页 中文文献检索…………………………………………第5页 中文科技期刊数据库( VIP ) …………………………第 10页 万方数字化期刊全文数据库…………………………第12页 中国期刊全文数据库( CNKI ) ………………………第7页 中国专利文献检索………………………………………第 13页 4 .检索效果评价……………………………………………第14页 5 .文献综述…………………………………………………第15页 3 1. 课题分析透明导电薄膜是一种既能导电又在可见光范围内具有高透明率的一种薄膜, 主要有金属膜系、氧化物膜系、其他化合物膜系、高分子膜系、复合膜系等。金属膜系导电性能好,但是透明率差。半导体薄膜系列刚好相反, 导电性差, 透明率高。当前研究和应用最为广泛的是金属膜系和氧化物膜系。透明导电薄膜主要用于光电器件(如 LED ,薄膜太阳能电池等) 的窗口材料。常见的透明导电薄膜为 ITO ( 锡掺杂三氧化铟)、 AZO( 铝掺杂氧化锌)等, 它们的禁带宽度大,只吸收紫外光,不吸收可见光,因此称之为“透明”。最近几年来国内外的研究者分别在低温制备的设备、工艺、薄膜的表面改性、多层膜系的设计和制备工艺方面进行了深入的研究。例如, Wu Wen-Fa 等利用 磁控溅射工艺在不加热的聚碳酸酯( PC )衬底上制备了厚度为 250mm ,电阻率为 6× ~2( Ω· cm) ,透过率为 74%~90% ; Park Sung Kyu 等利用 磁控溅射工艺在低温聚合物 PES 上制备了 110nmITO , 方块电阻是 20O/ □,透过率 80% ,但是表面的粗糙度较大;法国的 David 等,利用 In-S n 合金靶在 100 ℃下沉积在聚合物上的 ITO 薄膜透过率为 85% ,电阻率为~ Ω· cm ,表面粗糙度为 15-50 ,美国的 用直接金属离子束沉积( DMIBD )方法在 70℃的条件下制备的 ITO 薄膜最高透过率为 85% ,最低电阻率为 4 ×Ω· cm ,表面质量比较高;此外还有一些研究人员利用脉冲激光沉积( PLD ), 电子束热蒸发和金属离子辅助溅射等方法在低温甚至在室温的条件下进行高质量塑基的薄膜制备。国内的贾永新在 150 ℃基板条件下制备出了透过率为 80% 左右 ITO 薄膜,但没有见电阻和表面特性的报道; 近年来李育峰等利用微波等离子体辅助方法在 120 ℃的基片上沉积的薄膜透过率大于 85% ,但方块电阻大于 100O/ □,表面特性没有报道;马瑾等在塑料衬底上在 80℃-100 ℃的条件下制备出了透过率大于 84% ,电阻率~ 量级的薄膜。综上所述, 国内在低温尤其常温下制备 ITO 薄膜方面研究还不够充分、不够全面; 并且研究制备方法也比较单一, 与国外有比较大的差距。近年来国外尤其日本和韩国分别在低温沉积技术、薄膜生长机理和薄膜表面改性方面进行了深入的研究, 在保证不对薄膜衬底产生破坏的情况下, 在低温甚至室温的条件下制备出了薄膜电阻率低于 5 ×Ω· cm, 透过率大于 85% ,表面的粗糙度小于 2nm 的 ITO 薄膜。 4 2. 检索策略 选择检索工具检索工具名称访问方式检索年代文献类型谷歌搜索引擎 google .c 200 0 -20 14 网页维普期刊资源整合服务平台 oldweb. 200 0 -20 14 图书中台 0 -20 14 期刊论文中文科技期刊数据库( VIP ) 0 -20 14 期刊论文万方数字化期刊全文数据库 200 0 -20 14 期刊论文 Soopat 专利搜索引擎 0 -20 14 专利文献 选择检索词从课题字面选从课题内涵选(同义词、近义词、上下位词) 透明