电子显微镜1、电子显微镜的基本知识电镜与光镜的比较显微镜分辨本领光源透镜真空成像原理LM200nm可见光(400-700)玻璃透镜不要求真空利用样品对光的吸收形成明暗反差和颜色变化100nm紫外光(约200nm)(-)电磁透镜要求真空利用样品对电子的散射和透射形成明暗反差2、原理?以电子束作光源,电磁场作透镜。电子束的波长短,并且波长与加速电压(通常50~120KV)的平方根成反比。?由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成。?,放大倍数可达百万倍。?用于观察超微结构(ultrastructure),、光学显微镜下无法看清的结构,又称亚显微结构(submicroscopicstructures)。3、主要电镜制样技术?1)超薄切片?电子束穿透力很弱,用于电镜观察的标本须制成厚度仅50nm的超薄切片,用超薄切片机(ultramicrotome)制作。?通常以锇酸和戊二醛固定样品,丙酮逐级脱水,环氧树脂包埋,以热膨胀或螺旋推进的方式切片,重金属(铀、铅)盐染色。?2)负染技术用重金属盐(如磷钨酸)对铺展在载网上的样品染色;吸去染料,干燥后,样品凹陷处铺了一层重金属盐,而凸的出地方没有染料沉积,从而出现负染效果,。3)冰冻蚀刻freeze-etching?亦称冰冻断裂。标本置于干冰或液氮中冰冻。然后断开,升温后,冰升华,暴露出了断面结构。向断裂面上喷涂一层蒸汽碳和铂。然后将组织溶掉,把碳和铂的膜剥下来,此膜即为复膜(replica)。
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