镭雕工艺管理规范.docx

M、需会签 ■需会签会签部1、1/ .研发中心 .营运部 市场营销部 .生产部 .品质部 人力行政部 文控中心 财务部 制定梁宏盈 审核 董辉 批准1目的通过镭雕技术的应用取代现有公司产品上的移印或者丝印工艺,制造出低能耗、低排放、无污染的环保产品。范围适用于影像事业部五金制品、塑胶制品。权责生产工程:对镭雕工艺参数的调整及标准化。研发结构工程:对结构件设计时需要镭雕处理,向生产工程提出工艺的可行性需求。品质工程:对镭雕效果进行确认。营运部门:负责委外打样。营销部I、1:对外报样确认。定义镭雕:又名激光雕刻、激光打标、镭射打标等,是激光加工原理的一项重要应用, 就是利用镭射(laser)光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种!当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应,从而刻痕迹或是显示出图案或是文字,从而形成标记。作业程序我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机,其性能指数 如下:最大输出功率为50KW,最大雕刻范围为100*100mm,,,雕刻速度3600mm/:镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试:,雕刻深度深、字体线条粗;电流强度小,雕刻深度浅、字体线条细;雕刻金属材料时,电流强度大,一般在 18A以上;雕刻非金属材料时,电流强度小,一般在12A-16A左右,尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在16A左右。电流强度对雕刻非金属材料有很大影响,电流太大会破坏产品表层如:烧焦、雕刻面起泡等;太小图案会不清晰、无深度。:激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离,-18cm之间。被雕刻面离焦点近,激光能量大、雕刻深度深、字体线条细;被雕刻面离焦点远,激光能量小、雕刻深度浅,字体线条粗;雕刻金属材料时,一般离焦点要近 6mm雕刻非金属材料时,一般可偏离焦点,尢其是雕刻透光按键时,一定要偏离焦点 3-5mm。:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度、雕刻速度度快;太小:雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢;默认值::调整该参数可以明显改变雕刻的速度、精度和深度。激光开光延时太大:振镜往前走得太多激光才打开,笔画的开始会不够长;太小:振镜往前走得太少激光才打开,笔画开始点会出现重点。默认值:0us。备注:调整该参数可以减小首发重点问题。激光关光延时太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后激光才关闭,笔画末尾 点会形成重点,增加打标时间。太小:振镜还示充分转到,激光就关闭,笔画的末尾不够。默认值::高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。跳转延时太大:振镜已充分转到,并停滞一段时间后才处理下一个笔画,增加雕刻时间;太小:振镜还未充分转到,PC就开始处理下一个笔画,笔画开始的地方会出现散点。默认值::太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后 PC才处理画的下一线段,拐弯点会形成重点,增加打标时间;太小:振镜还未充分棱到, PC就开始处理笔画的下一线段,拐弯的地方会出现圆弧。默认值: