基于ECR等离子体辅助脉冲激光沉积氧化锌薄膜制备与氮掺杂.pdf

指导小组成员名单:教授许宁副教授孙剑吴嘉达蛰’。
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参考文献⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.致谢⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯。后记⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..▲◆
摘要本论文主要研究方向为利用激光烧蚀和微波放电联合作用摸索一种制备氧化锌薄膜材料的新方法,并在此基础上研究氧化锌的性质和氮掺杂。这种方法结两种技术的优点,形成了独特的电子回旋共振等离子体辅助脉冲激光沉积甈际酢;谡庵旨际酰颐浅晒χ票噶搜趸薄膜,并对所生长的氧化锌薄膜进行了表征分析和性质研究。此外,运用这种技术,也可以用于实现氧化锌薄膜的氮掺杂,本文也介绍了对于ㄖ龀寮す獬粱ń,是在激光问世后不久人们研究强激光与物质相互作用时发现的一种独特的现象,人们利用这一现象发展了一种用于薄膜的沉积。但是由于当时条件和认识的限制,这种方法的优点并不明显。然而,自从晒Φ赜τ糜诟呶鲁急∧さ闹票敢岳矗庖患际跏艿搅似毡的关注,、电离度高的等离子体,将这两种技术结合起来,,还实现了∧さ牡2粼印1疚幕咕蚙薄膜的制备把用壤胱导体集成一般在衬底上进行,而目前常用的高温条件下在表面制备合了脉冲激光沉积法和电子回旋共振微波放电氮掺杂技术的尝试。脉冲激光烧蚀称为脉冲激光沉积,的薄膜制备技术,并尝试程和特点为:对气体进行⒉ǚ诺缫⒏呋钚缘腅等离子体,在等离子体环境中用脉冲激光束烧蚀相应的靶材引发壤胱犹澹诹街值壤子体的交迭区域壤胱犹逯械幕钚猿煞趾捅患す馍帐闯隼吹陌形镏史⑸相反应,低能等离子体束流同时轰击衬底和膜层又能有效促进成核和膜层形成,而该方法的非平衡特性还能突破某些平衡热力学的限制。⒖斫氲继宀牧稀的直接宽带隙以及其他优良特性使得锌赡艹晌V谱餍乱淮豆馍踔磷贤夤夥⒎⑸淦骷的新型材料。然而,由于氧化锌制备容易出现“富锌”现象,通常制备所得的氧化锌薄膜为桶氲继灞∧ぃ拗屏薢材料的应用。根据之前的研究,制备氧化锌薄膜的过程中容易产生杂质,影响其电学、光学特性。同时,现在使用的半的方法容易在称底和膜层之间形成氧化硅中间层。因此在室温下制备物理特性优基于壤胱犹甯ㄖ龀寮す獬粱谋∧こ粱驮徊粼,复旦大学硕士学位论文◆●
沉底上成功制备具有较好崛∠虻腪纳米晶薄膜,并用甈方法以下生长的∧ぬ匦缘玫搅撕艽蟮母纳疲绕湓诰褰峁狗矫妫赟衬底上形成了方向性良好的∧ぃ⑶揖哂辛己玫奈锢硖匦裕氧化锌薄膜的另一个重要研究领域就是元素掺杂。经过不同元素的掺杂,氧进行电学掺杂是形成脱趸勘∧ぶ匾5奶剿鳌Mü褂肊的方法,我们可以较为方便的对氧化锌进行氮元素掺杂。通过多种表征方法,证明通过这种方法所制备的氧化锌薄膜确实实现了氮元素掺杂,同时也发现氮掺杂改进了薄有关墓ぷ饕讶〉昧撕艽蟮慕梗ú牧媳∧ぁ⑿灾恃芯