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存储卡的改良结构的制作方法
专利名称：存储卡的改良结构的制作方法
技术领域：
本实用新型是一种存储卡的改良结构，可有效避免存储卡受不必要的电压、电流 的电磁干扰，而影响其运作，降低存储卡的使用寿命。
背景技术：
由于科技的高度发展电元件；2-外壳；21-上盖；211-凸部；22-底盖；221-凹槽。
具体实施方式
为使贵审查委员方便了解本发明的内容，及所能达成的功效，兹配合图示列举具 体实施例，详细说明如下首先，请参阅图1至图6所示，本实用新型为一种存储卡的改良结构，以参考编号 1表示之，其主要包含有一下壳体11、一电路
板12及一上壳体13 ；其中，[0031]该下壳体11，其为一树脂的材质，其底端开设有多个端子孔111，于下壳体11的缘 边则凸设有一阶层112。该电路板12，设置于下壳体11的上端，其具有存储元件121及端子片122，而该端 子片122对应置于下壳体11的端子孔111处，以供端子片122显露而便存取。该上壳体13为一金属材质，其对应设置于下壳体11的上端，且该上壳体13的缘 边与下壳体11的阶层112相抵触、卡合，而使得上壳体13与下壳体11互盖形成一容置空 间，以供收容该电路板12 ；而该上壳体13凹设有文字或图案131 (如第5图所示)，于凹设 的图案或文字131内则亦可填入有色料132 (如第3或6图的所示)。其次，请再次参阅图3和图4所示，为本实用新型所提供的存储卡的改良结构局部 剖面，及标号A的放大实施例示意图；当下壳体11与上壳体13并合时，通过下壳体11为 一树脂的材质，该上壳体13为一金属材质，且该树脂具有一较高的韧性特质，使得两并合 时形成一紧配合的状态，而可相互固定、结合，则能有效减少基材的浪费及其结合的制程作 业。其次、请参阅图7和图8所示的另一实施例，于该上壳体13上涂布一层膜133，且 该层膜133上形成凹设的文字或图案131，而该文字或图案131由蚀刻或雷射雕刻该层膜 133所形成，而使凹设图案或文字131呈现该上壳体13的金属表面。另于凹设图案或文字 131内亦可填入有色料132。另，请参阅图9所示为本实用新型再一实施例分解图；其中，该存储卡1的改良结 构更进一步包括有一导电元件14，其为一导电薄膜或金属片等导电片，而该导电元件14设 置于该电路板12与上壳体13之间，并分别与该电路板12及上壳体13电气连接，而电路板 12设有一接点123，而供该导电元件14的一面电气连接，且导电元件14的另一面则与该上 壳体13电气连接，而使导电元件14、电路板12及上壳体13形成电气连接，通过导电元件 14将电路板12上的电磁经其接点123引导至金属的上壳体13已形成一接地端，则可将其 电压、电流排出，而能增加存储卡1的电磁相容性，使其在读取时能更加稳定。上述的具体实施例是用来详细说明本实用新型的目的、特征及功效，对于熟悉此 类技艺的人士而言，根据上述说明，可能对该具体实施例作部份变更及修改，其本质未脱离 出本实用新型的精神范畴，皆应包含在本案的申请专利范围中，宜先陈明。综上所述，本实用新型不但在空间型态上确属创新，并能较现有物品增进功效，应 已充分符合新颖性及进步性的法定实用新型专利要件，依法提出申请，恳请贵局核准本件 实用新型专利申请案，以励实用新型，至感德便。
权利要求一种存储卡的改良结构