分子印迹制备方法.docx

悬浮聚合中，微米级，粒经均一
通常以水或强极性溶剂作分散剂，这些分散剂竞争结合模板分子，削弱甚至破坏功能单体与 模板分子的结合强度；同时又能溶解功能单体，妨碍单体和交联剂的自由基聚合。另外，如 果功能单体具有亲水基团，模板分子就容易分配到悬浮聚合中，微米级，粒经均一
通常以水或强极性溶剂作分散剂，这些分散剂竞争结合模板分子，削弱甚至破坏功能单体与 模板分子的结合强度；同时又能溶解功能单体，妨碍单体和交联剂的自由基聚合。另外，如 果功能单体具有亲水基团，模板分子就容易分配到水中，因此以水为分散剂制备球形分子印 迹聚合物的方法很少使用。核壳聚合虽然可以制备出粒径均匀的纳米级颗粒，但是其分散过 程和制备过程复杂，不容易推广。而沉淀聚合［33 ］是目前简便、易于推广的一种新型制备纳 米级印迹聚合物的方法。
这种方法制备的分子印迹聚合物的形貌是球形，与传统的块状聚合物相比具有更大的比表面 积。悬浮聚合法的缺点：水溶性功能单体与交联剂间的无规共聚很难进行，且水溶性模板 分子会在水相中损失，因此很难用水相悬浮聚合制备分子印迹聚合物。
沉淀聚合粒经分不大
的一个特点是实验过程简单，不需对产物进行研磨，减少了由这些步骤引起的聚合物的损失。 沉淀聚合法的缺点是对溶剂的粘性要求高，只有在粘性较小的溶剂中才能实现理想的粒径分 布。因为在低粘度的溶剂中，单体分子和低聚物有较大的流动性，从而可以避免它们的聚集。 目前文献只报道了乙月青中的沉淀聚合。同时，由于该方法不需要在反应体系中加入任何稳定 剂，从而制备得到的聚合物微球表面洁净，可避免部分难以除去的稳定剂或表面活性剂对模 板分子的非特异性吸附。沉淀聚合法的缺点：对溶剂要求比较高，离子尺寸大小不宜控制。
表面印迹法
分子印迹技术的难题之一是，对于亲水性的模板分子，特别是一些金属离子，很难在有机溶 剂中对其进行印迹。而表面印迹技术可以很好地解决这一难题。以印迹金属离子为例，将金 属离子与功能单体形成配合物，然后将它通过缩合聚合引入到硅胶表面，除去金属离子后， 在硅胶表面上就留下了可识别该金属离子的位点。
表面印迹聚合法也称为基质修饰法，是指以表面经过化学改性的硅胶和金属氧化物等为载 体，将模板分子和功能单体在溶剂中聚合形成的复合物接枝到载体的表面，形成一层薄薄 的分子印迹聚合物的方法。这种方法解决了传统方法制备的印迹聚合物对模板分子包埋过深 而洗脱不完全的问题，并提高了印迹效率和吸附速率。由于结合位点存在于聚合物的表面， 目标分子易于接近，从而大大缩短了吸附平衡的时间。表面印迹聚合法的缺点：吸附容量较 小。
乳液聚合纳米级均一
工艺简单，能制备不同粒径级别的单分散性聚合物。将模板分子、功能单体、交联剂溶于有 机溶剂中，然后将溶液移入水中，搅拌、乳化，最后加入引发剂