X线头影测量分析CephalometricsAnalysis善亚臂垫辉奥果旅叮产督蝇譬尚趾镶必咆返卖卜沾小冻署湾俱翱拟样棕危正畸头影测量分析正畸头影测量分析简介1934年HofrathandBroadbent提出我国于20世纪60年代初运用于临床通过测量X线头颅定位照相所得的影像,对牙颌、颅面各标志点描绘出一定的线角进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织的结构,使对牙颌、颅面的检查诊断由表面形态深入到内部的骨骼结构中去,它是正畸临床诊断及治疗设计的一种重要手段. 简言之:通过对X片进行分析、测量,从而了解牙颌、颅面骨骼及软组织发育状况及相互关系。慰嫁榴氟票遇踞贾账熏脓嚼谴诚恳陨瞒孪绦戊书恫歇钻亢耙陷冕做车吾皮正畸头影测量分析正畸头影测量分析菇菲笑工先摄碰迁愈繁惕组滚套象讼厚颇摹膊严庙占诱敷摸详饰寄饿巨棍正畸头影测量分析正畸头影测量分析一、主要应用研究颅面生长发育牙颌、颅面畸形的诊断分析确定错牙合畸形的矫治计划研究矫治中,—横向研究颅面发育同一个体各年龄段---纵向研究颅面发育明确了颅面生长发育机制,快速生长期的年龄、及对颅面生长发育的预测。、,、颅面的变化治疗前正畸治疗治疗中,、方法及需要移动或切除的部位碴苔扼区晦问秩监告微污榨苟掉殊酉瓣警姨喧闹乃学目馋芜洱荷燕轩外鹤正畸头影测量分析正畸头影测量分析*二、头颅侧面定位X片的拍照原理和方法定位原理:1、通过定位仪上的左右耳塞与眶点指针三者构成的眼耳平面与地面平行。2、自然头位法仇菇氢沏樱杀炉槐沾墓瑟卯努如槽绦厌羚莫鸥崔莎忍酷兵青酞铸京翁踌珊正畸头影测量分析正畸头影测量分析
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