正畸头影测量分析.ppt

X线头影测量分析Cephalometrics Analysis
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简介
1934年Hofrath and Broadbent 提出
我国于20世纪60年代初运用于临床
通过测量X 线头颅定位照相所得的影像,对牙颌、颅面各标志点描绘出一定的线角进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织的结构,使对牙颌、颅面的检查诊断由表面形态深入到内部的骨骼结构中去,它是正畸临床诊断及治疗设计的一种重要手段.
简言之:通过对X片进行分析、测量,从而了解牙颌、颅面骨骼及软组织发育状况及相互关系。
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一、主要应用
研究颅面生长发育
牙颌、颅面畸形的诊断分析
确定错牙合畸形的矫治计划
研究矫治中,矫治后的变化
外科正畸的诊断和矫治设计
下颌功能分析
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不同个体同一年龄段—横向研究颅面发育
同一个体各年龄段---纵向研究颅面发育
明确了颅面生长发育机制,快速生长期的年龄、及对颅面生长发育的预测。
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通过X线对正常牙合人的颅面结构进行分析
得出正常牙合的各项测量参考标准
作为诊断分析
的基础
、颅面畸形的诊断分析
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对比
分析出错牙合畸形的机制
正常牙颌
颅面关系
个体牙颌
颅面结构
确定牙和颌位的理想位置,制定可行的矫治方案
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、颅面的变化
治疗前
正畸治疗
治疗中,矫治后
对比
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通过X线对颅面畸形患者进行分析
得出畸形的机制
确定部位、方法及需要移动或切除的部位
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二、头颅侧面定位X片的拍照原理和方法
定位原理:
1、通过定位仪上的左右耳塞与眶点指针三者构成的眼耳平面与地面平行。
2、自然头位法
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