微电子学绝缘体半导体相关内容思维导图.doc§1表面变容器
§2MIS和绝缘体半导体光敏器件
§3绝缘栅MIS场效应晶体管
§ 1表面电荷不均匀性的统计模型
§2具有非均匀分布表面电荷的MIS电容器模型
§3确定表面电荷微区不均匀性特征参数的方法
§4表面电荷不均匀性影响M IS系统特性的实验数据
参考文献
第九章MIS和绝缘体■半导体结构的器件和组件
§1电荷耦合器件工作的物理原理
§2CCD的工作状态
§3电荷损失机理
§4CCD器件的工作特点
§5不同类型的CCD集成电路
第八章电荷耦合器件
第七章MIS系统电物理性质的不均匀性及确定不均匀性的方法
§1MIS系统中的光电容效应理论
§2在硅MIS结构内光电容效应的主要规律性
§3光电容效应法研究MIS结构中的复合和陷获过程
第六章光照对MIS系统特性的影响一光电容效应
§4具有非稳态耗尽层的M IS结构内的光电现象
§1MIS结构参数和非平衡空间电荷区特性的相互关系
§2MIS结构中的双极产生过程
§3硅MIS结构中双极产生过程的实验研究结果
§4MIS结构产生和复合参数的相互关系
§ 5绝缘体内的电荷输运和场产生
第五章MIS结构中的产生现象和输运过程
§6半导体衬底内的场产生
§7隧道谱
§8厚绝缘层MIS结构中的隧道产生现象［动态隧道效应］
刖旨
主和缩写字说明
目录
§1半导体经氧化而形成绝缘膜的方法
§2杂质对氧化层性质的影响
§2根据电容测量计算表面势和表面陷阱参数的方法
金属■绝缘体■牌体微电子学系统的物理出
§3制备绝缘膜的其它方法
第一章在牌体衬底上生长绝缘膜
51MIS系统的等效电路
§3基于测
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